這兩年間，美國(guó)不斷增加的“實(shí)體清單”名單，和愈發(fā)過(guò)火的半導(dǎo)體禁令，讓中國(guó)深刻地體會(huì)到了“中國(guó)芯”領(lǐng)域的巨大缺口。

現(xiàn)在，以華為為首的中國(guó)科技企業(yè)，面臨著芯片斷供的危機(jī)。唯一的自救之法就只剩下自主制造芯片。

客觀來(lái)說(shuō)，中國(guó)在芯片設(shè)計(jì)領(lǐng)域做得很不錯(cuò)。比如華為麒麟芯片，就和高通驍龍一起，居于智能手機(jī)芯片市場(chǎng)的第一梯隊(duì)。紫光展銳更是在今年克服了技術(shù)難題，研發(fā)出了全球首款6nm euv工藝芯片——虎賁t7250。

然而，就算中國(guó)擁有前沿芯片設(shè)計(jì)技術(shù)，也突破了制程工藝瓶頸，中國(guó)也很難制造生產(chǎn)芯片。原因就在于核心設(shè)備光刻機(jī)上。

光刻機(jī)是芯片制造環(huán)節(jié)中最關(guān)鍵、最核心、技術(shù)含量最高的設(shè)備。全球范圍內(nèi)，目前只有asml（荷蘭阿斯麥公司）能夠生產(chǎn)高端的euv光刻機(jī)。

雖說(shuō)asml不是美國(guó)企業(yè)，不受實(shí)體清單的限制。但中芯國(guó)際于2018年初，斥資1.2億美元向asml訂購(gòu)的光刻機(jī)，至今仍未到貨。無(wú)論背后原因如何，從這一點(diǎn)就能看出，要想實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破，只能夠依靠自己。

而就在最近，中國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域真的邁出了相當(dāng)成功的一步。我國(guó)一家名為華卓精科的企業(yè)，近日宣布成功突破了雙工件臺(tái)納米級(jí)限制，成為了全世界第二家可以獨(dú)立生產(chǎn)制作雙工件臺(tái)的企業(yè)。

據(jù)了解，一臺(tái)光刻機(jī)的重量高達(dá)180噸，其內(nèi)部有10萬(wàn)多個(gè)零部件、3000多條線路，技術(shù)難度非常高，內(nèi)部結(jié)構(gòu)極其復(fù)雜龐大。asml平均每年僅能制造出20臺(tái)euv光刻機(jī)，而其中90%的關(guān)鍵設(shè)備和零部件都要依靠進(jìn)口。所以，在光刻機(jī)領(lǐng)域內(nèi)，能掌握一個(gè)關(guān)鍵技術(shù)，就具有相當(dāng)?shù)囊饬x。

在光刻機(jī)所需的10萬(wàn)+零部件中，最重要的三個(gè)分別是：極紫外光源、光學(xué)鏡頭和雙工件臺(tái)。雙工件臺(tái)直接決定著光刻硅片的質(zhì)量。

普通的單工件臺(tái)，每小時(shí)的產(chǎn)能僅80片左右，而雙工件臺(tái)的生產(chǎn)速度提升到了每小時(shí)270-300片。不僅如此，雙工件臺(tái)在高速運(yùn)作的同時(shí)，還能保證精細(xì)至2nm的精準(zhǔn)度。要知道一根頭發(fā)的直徑都有40-50微米，相當(dāng)于40000-00nm。所以，雙工件臺(tái)的技術(shù)難度是相當(dāng)大的。

華卓精科研發(fā)的雙工件臺(tái)，對(duì)我國(guó)光刻機(jī)行業(yè)，乃至于整個(gè)芯片行業(yè)都是非常有意義的。大家應(yīng)該對(duì)“中國(guó)芯”充滿信心。

以上是網(wǎng)絡(luò)信息轉(zhuǎn)載，信息真實(shí)性自行斟酌。