據海外媒體報道，日本三洋電機公司和三洋aqua技術公司日前聯合開發成功了污水處理設備“slurry closer”，用于對半導體工廠生產工序中排放的污水進行低成本處理。
“slurry closer”主要用于對從化學機械研磨（cmp）工序（）中排放的污水進行處理，cmp工序是指利用砂布對硅晶片表面進行研磨，由于使用含有金鋼砂的研漿作為研磨劑，因此排出的污水中含有直徑在數十納米以下的金鋼砂和從硅晶片表面研磨下來的碎屑。
這種廢水過去與其他半導體制造工序中的廢水一樣，通過凝聚沉淀和過濾進行處理。但是，由于必須使用大量的凝聚劑，而且過濾器也會形成網眼堵塞，因此作業效率低、成本高。
三洋電機等公司此次利用浸漬式平板膜自主開發出超低壓過濾技術。在過濾器上利用cmp排水生成凝膠層，能夠高效而正確地使其分離成水和粒子。不僅處理成本大幅降低，而且還能夠回收到有可能當作回收資源來使用的粒子。
三洋電機等公司今后將與日本東北大學多元物質科學研究所的中村崇教授共同對回收的固體粒子的再利用及其用途進行開發。
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