具有世界領(lǐng)先水平、完全屬于自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的國內(nèi)第一臺(tái)無掩膜式(直寫式)“光刻機(jī)”近日在合肥研制成功，這標(biāo)志著我國亞微米級(jí)光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口的局面被打破。

據(jù)介紹，光刻機(jī)項(xiàng)目之所以屬于重大高端，是因?yàn)樗巧a(chǎn)電子芯片的最關(guān)鍵設(shè)備，用于制造電子元器件上的集成電路圖案。同時(shí)，中國是全球集成電路的最大消耗國，據(jù)統(tǒng)計(jì)所用集成電路占全球的24%以上，但是國產(chǎn)集成電路國內(nèi)市場自給率卻少于10%，因此，光刻機(jī)被國家“十一五”發(fā)展規(guī)劃明確定義為重點(diǎn)制造裝備。據(jù)了解，該無掩膜式(直寫式)光刻機(jī)分辨率為0.65微米，可應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、生物、醫(yī)藥、光電、太陽能電池、新能源及薄膜電路等不同領(lǐng)域。

據(jù)開發(fā)該產(chǎn)品的芯碩半導(dǎo)體(中國)有限公司介紹，該項(xiàng)目落戶合肥后，從2006年12月開始，只用了一年時(shí)間就研發(fā)出首臺(tái)設(shè)備。根據(jù)規(guī)劃，此后該公司將進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)，一期工程將于明年9月份正式完工。

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