6月5日，在中國電子科技集團公司第二研究所（簡稱中國電科二所）生產大樓內，100臺碳化硅（sic）單晶生長設備正在高速運行，sic單晶就在這100臺設備里“奮力”生長。
中國電科二所第一事業部主任李斌說：“這100臺sic單晶生長設備和粉料都是我們自主研發和生產的。我們很自豪，正好咱們自己能生產了。”
sic單晶是第三代半導體材料，以其特有的大禁帶寬度、高臨界擊穿場強、高電子遷移率、高熱導率等特性， 成為制作高溫、高頻、大功率、抗輻照、短波發光及光電集成器件的理想材料，是新一代雷達、衛星通訊、高壓輸變電、軌道交通、電動汽車、通訊基站等重要領域的核心材料，具有重要的應用價值和廣闊的應用前景。
中國電科二所第一事業部主任李斌說：“高純sic粉料是sic單晶生長的關鍵原材料，單晶生長爐是sic單晶生長的核心設備，要想生長出高質量的sic單晶，在具備高純sic粉料和單晶生長爐條件下，還需要對生產工藝進行設計、調試和優化。”
據介紹，單晶生長爐需要達到高溫、高真空、高潔凈度的要求，目前國內只有兩家能生產單晶生長爐，中國電科二所是其中之一。他們突破了大直徑sic生長的溫場設計，實現可用于150mm直徑sic單晶生長爐高極限真空、低背景漏率生長爐設計制造及小批量生產；他們還突破了高純sic粉料中的雜質控制技術、粒度控制技術、晶型控制技術等關鍵技術，實現了99.9995%以上純度的sic粉料的批量生產。
來源：科技日報
以上是網絡信息轉載，信息真實性自行斟酌。
）
