12月6日至9日美國加利福尼亞州的ieee半導體接口專家會議(sisc2017)上，日本富士通公司及其子公司富士通實驗室公司(fujitsu laboratories ltd)介紹了據稱是第一個室溫下實現單晶金剛石和碳化硅(sic)襯底焊接，關鍵是這兩者都是硬質材料，但具有不同的熱膨脹系數。

使用這種技術散熱可以高效率地冷卻高功率氮化鎵(gan)高電子遷移率晶體管(hemt)，從而使功率放大器在高功率水平下穩定工作。

傳統gan hemt——sic襯底散熱

近年來，高頻gan-hemt功率放大器已被廣泛用于雷達和無線通信等遠程無線電領域，預計還將用于天氣雷達觀測局部暴雨，或者即將出現的5g毫米波段移動通信協議。對于這些使用微波到毫米波頻段雷達或無線通信系統，通過提高用于傳輸的gan-hemt功率放大器的輸出功率，無線電波能夠傳播的距離將增大，可擴展雷達觀測范圍，實現更遠和更高容量的通信。

圖1中，gan hemt功率放大器的一些輸入功率會轉化成熱量，然后分散到sic沉底。由于提高雷達和無線通信的射程和功率也增加了器件產生的熱量，這對其性能和可靠性產生不利影響，因此需要將器件熱量有效地傳輸到冷卻結構(散熱片)。

金剛石-sic散熱

盡管sic襯底具有相對較高的導熱率，但是對于具有越來越高的功率輸出的器件而言，需要具有更好的導熱率的材料以有效地將器件熱量運送到冷卻結構。 單晶金剛石具有非常好的導熱性-幾乎是sic襯底的5倍 - 被稱為可以有效散熱的材料。

金剛石-sic鍵合方法

為了將單晶金剛石鍵合到作為冷卻材料的器件上，正常的生產過程使用氬(ar)束去除雜質，但這會在表面形成低密度的受損層，這會削弱單晶金剛石可能形成的鍵合。此外，使用諸如氮化硅(sin)的絕緣膜用于鍵合，由于sin存在熱阻會削弱導熱性。

為了防止ar束在金剛石表面形成損傷層，富士通開發了一種技術，在暴露于ar束之前用極薄的金屬膜保護表面(見圖2)。 為了確保表面是平面的(為了在室溫下良好的鍵合)，金屬膜的厚度需限制在10nm或更薄。

這種技術被證實可以防止ar束暴露后在金剛石表面形成損傷層(圖3)，從而提高了鍵合強度，從而使得單晶金剛石在室溫下與sic襯底鍵合。

熱阻測試結果

在室溫下測量了粘樣品的熱阻，發現sic /金剛石界面的熱阻極低，為6.7×10-8m2k/w。使用這一測量參數進行的仿真表明，該技術將顯著降低200w級gan-hemt器件的熱阻，降至現有器件的61%(相當于表面溫度降低80°c)，見圖4。

因此這種技術可以用于生產具有更高輸出功率發射器的gan-hemt功率放大器。 當用于天氣雷達等系統時，用于發射器的gan-hemt功率放大器可望將雷達的可觀測范圍提高1.5倍，這樣可以更快地檢測到能夠產生突然暴雨的積雨云，從而為災難做好準備。

富士通計劃

富士通計劃利用該技術評估gan-hemt的熱阻和輸出性能，并計劃在2020年將其應用于高輸出、高頻功率放大器，應用于氣象雷達和5g無線通信系統。

日本防務省提供研究資助

該研究獲得了日本防務省采購、技術與后勤局(alta)設置的“安全創新科技計劃”(the innovative science and technology initiative for security)。

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