中國電子科技集團公司第48所近日成功研制出國內首臺具有自主知識產權的、適用于0.25μm器件特征尺寸、6英寸至8英寸晶圓片平坦化工藝要求的化學機械拋光設備。
該項目的研制成功，填補了我國ic設備制造業0.25μm／6英寸至8英寸晶圓片平坦化設備的空白。
以上是網絡信息轉載，信息真實性自行斟酌。
2024-05-13 02:17:00
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中國電子科技集團公司第48所近日成功研制出國內首臺具有自主知識產權的、適用于0.25μm器件特征尺寸、6英寸至8英寸晶圓片平坦化工藝要求的化學機械拋光設備。
該項目的研制成功，填補了我國ic設備制造業0.25μm／6英寸至8英寸晶圓片平坦化設備的空白。
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