日前，“北京工業(yè)技術支撐與產(chǎn)業(yè)促進平臺”產(chǎn)業(yè)化項目對接會——光機電領域專場，中科院光電研究院的專家重點推介了包括環(huán)氧線路板專用清洗設備“常壓低溫等離子體系列清洗設備”在內的新技術、新產(chǎn)品。

隨著it升級活動增加，計算機、數(shù)碼相機、平板電視、dvd錄音機以及其他數(shù)字產(chǎn)品市場需求旺盛，2004年全球清洗設備的總體市場為12億美元，預計2005年可達15億美元。據(jù)中國環(huán)氧樹脂行業(yè)協(xié)會專家介紹，半導體加工線寬越來越精細，清洗在整個半導體制造過程中也越來越重要。中科院光電研究所研制成功的常壓低溫等離子體系列清洗設備主要有3種：appj常壓輝光低溫等離子體噴槍設備；目前國外沒有的apup輝光低溫等離子體光刻膠清洗設備；目前國外沒有的appt輝光低溫等離子體通道表面改性和清洗設備。常壓低溫等離子體系列清洗設備可用于環(huán)氧印刷線路板光刻膠清洗、殘余物清洗、孔殘余物清洗、芯片粘接表面活化，表面交聯(lián)、封裝、高分子材料及醫(yī)療領域。設備需求如果以10%的速度增長，2008年市場需求將超過150億元人民幣。生產(chǎn)的產(chǎn)品按占全球清洗設備市場的1/150計算，預計銷售將超過1億元人民幣，年利潤將超過3700萬元人民幣。

投資專家認為中國科學院光電研究院的該技術項目效益可觀。appj常壓輝光低溫等離子體噴槍設備需要投資150萬元，預計市場銷售價格為20萬元人民幣/臺，按每年銷售100臺計算，產(chǎn)值將達到2000萬元，獲得利潤700元。apup輝光低溫等離子體光刻膠清洗設備需要投資600萬元，預計市場銷售價格為200萬元人民幣/臺，按每年銷售20臺計算，年產(chǎn)值將達到4000萬元，獲得利潤1500萬元。appt輝光低溫等離子體通道表面改性和清洗設備需要投資600萬元，預計市場銷售價格為200萬元人民幣/臺，按每年銷售20臺計算，年產(chǎn)值將達到4000萬元，獲得利潤1500萬元。

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